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无尘车间按照等级划分标准，主要可以分为百级无尘车间、千级无尘车间、万级无尘车间、十万无尘车间等好几种等级，那么你知道什么叫千级无尘车间吗?

　　微尘数量被严格控制在每立方米1000个以内，这也就是业内俗称级别中的千级无尘车间。目前应用在芯片级生产加工的无尘标准对于灰尘的要求高于A1级，这样的高标主要被应用在一些等级较高芯片生产上。装配式无尘车间厂房的全部维修工厂内按统一模数及系列加工完成。

无尘车间要控制相对湿度，以下几个影响因素也是关键：

金属腐蚀：很多化学反应的速度，包括腐蚀过程，将随着相对湿度的增1高而加快。所有暴露在无尘车间、洁净室周围空气中的表面都很快地被覆盖上至少一层单分子层的水。当这些表面是由可以与水反应的薄金属涂层组成时，高湿度可以使反应加速。幸运的是，一些金属，例如铝，可以与水形成一层保护型的氧化物，并阻止进一步的氧化反应；但另一种情况是，例如氧化铜，洁净车间报价，是不具有保护能力的，因此，衢州洁净车间，在高湿度的环境中，铜制表面更容易受到腐蚀。

水汽冷凝：在相对湿度较高的环境中，浓缩水形的毛细管力在颗粒和表面之间形成了连接键，可以增加颗粒与硅质表面的黏附力。这种效应——凯尔文浓缩——当相对湿度小于50%时并不重要，但当相对湿度在70%左右时，就成为颗粒之间黏附的主要力量。 所以必须要对无尘车间相对湿度控制。

光刻的退化：这在半导体无尘车间、洁净室中迫切需要适当控制的是光刻胶的敏*。由于光刻胶对相对湿度*为敏感的特性，洁净车间施工，它对相对湿度的控制范围的要求是严格的水准。实际应用上，相对湿度和温度对于光刻胶稳定性以及精1确的尺寸控制都是很关键的。甚至是在恒温条件下，光刻胶的粘性将随着相对湿度的上升而迅速下降。当然，改变粘性，就会改变由固定组分涂层形成的保护膜的厚度。

还有就是吸水性，在高的相对湿度环境下，由于水分的吸收，使烘烤循环后光刻胶膨胀加重。光刻胶附着力同样也可以受到较高的相对湿度的负1面影响；较低的相对湿度(约30%)使光刻胶附着更加容易，甚至不需要聚合改性剂，如六甲1基二硅氮烷(HMDS)。