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NR29 25000P光刻胶公司-赛米莱德公司

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PC6-16000

NR9-3000PY 相对于其他光刻胶具有如下优势:

- 优异的分辨率性能

- 快速地显影

- 可以通过调节*能量很容易地调节倒梯形侧壁的角度

- 耐受温度100℃

- 室温储存保质期长达3 年

NR9-1000PY 0.7μm - 2.1μm

NR9-1500PY 1.1μm - 3.1μm

NR9-3000PY 2.1μm - 6.3μm

NR9-6000PY 5.0μm -

12.2μm

Resist Thickness

NR71-1000PY 0.7μm - 2.1μm

NR71-1500PY 1.1μm - 3.1μm

NR71-3000PY 2.1μm - 6.3μm

NR71-6000PY 5.0μm - 12.2μm



光刻胶

光刻胶由光引发剂、树脂、溶剂等基础组分组成,又被称为光致*蚀剂,这是一种对光非常敏感的化合物。此外,NR29 25000P光刻胶哪家好,光刻胶中还会添加光增感剂、光致产酸剂等成分来达到提高光引发效率、优化线路图形精密度的目的。在受到紫外光*后,NR29 25000P光刻胶,它在显影液中的溶解度会发生变化。

分类

根据光刻胶按照如何响应紫外光的特性可以分为两类。

正胶

*前对显影液不可溶,而*后变成了可溶的,能得到与掩模板遮光区相同的图形。

优点:分辨率高、对比度好。

缺点:粘附性差、*刻蚀能力差、高成本。

灵敏度:*区域光刻胶完全溶解时所需的能量

负胶egative






Photo Resist)

与正胶反之。

优点: 良好的粘附能力和*刻蚀能力、感光速度快。

缺点: 显影时发生变形和膨胀,导致其分辨率。

灵敏度:保留*区域光刻胶原始厚度的50%所需的能量。


正性光刻胶的金属剥离技术

正性胶的金属剥离工艺对于获得难腐蚀金属的细微光刻图形比常规的光刻胶掩蔽腐蚀法显示了优越性。本文首先对金属剥离工艺中的正、负光刻胶的性能作了对比分析。认为正性光刻胶除图形分辨率高而适应于微细图形的掩膜外,它还具有图形边缘陡直,NR29 25000P光刻胶公司, 去胶容易等性能,比负性光刻胶更有利于金属剥离工艺。然后给出了具体的工艺条件,并根据正性光刻胶的使用特点指出了工艺中的关键点及容易出现的问题。如正性光刻胶同GaAs表面的粘附性较差,这就要求对片子表面的清洁处理更为严格。为了高止光刻图形的*移控制光刻图形的尺寸,对*时同特别是显影液温度提出了严格的要求。由于工艺中基本上不经过腐蚀过程,胶膜的耐腐蚀性降到了次要地位。

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