磁控溅射镀膜设备是一种多功能、的镀膜设备。可根据用户要求配置旋转磁控靶、中频孪生溅射靶、非平衡磁控溅射靶、直流脉冲叠加式偏压电源等,组态灵活、用途广泛,主要用于金属或非金属(塑料、玻璃、陶瓷等)的工件镀铝、铜、铬、钛金、银及不锈钢等金属膜或非金属膜及渗金属DLC膜,真空电镀,所镀膜层均匀、致密、附着力强等特点,可广泛用于家用电器、钟表、工艺美术品、玩具、车灯反光罩以及仪器仪表等表面装饰性镀膜及工模具的功能涂层。
电镀和真空镀的区别有哪些?接下来让我们一起来了解一下,更方便我们犹豫选择电镀还是真空镀的时候能做出正确的判断。
1、电镀:起到防止金属氧化(如锈蚀),提高*性、导电性、反光性、*腐蚀性(*铜等)及增进美观等作用。
2、真空镀:通过这样的方式可以得到非常薄的表面镀层,同时具有速度快附着力好的突出优点,电子产品真空电镀,但是价格也较高,可以进行操作的金属类型较少,一般用来较产品的功能性镀层。
3、电镀:电镀在重工业上应用较多(汽车等)。
4、真空镀:真空电镀泽广泛应用于家用电器、化妆品包装等。
电镀和真空镀的区别有哪些?接下来让我们一起来了解一下,工艺品类真空电镀,更方便我们犹豫选择电镀还是真空镀的时候能做出正确的判断。
原理上的不同 1、电镀:是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其他金属或合金的过程,礼品类真空电镀,是利用电解作用使金属或其他材料制件的表面附着一层金属膜的工艺。电镀过程是镀液中的金属离子在外电场的作用下,经电*反应还原成金属原子,并在阴*上进行金属沉积的过程。 2、真空镀:采用真空条件下,通过蒸馏或溅射等方式在塑件表面沉积各种金属和非金属薄膜。二、工艺特点的不同