气相沉积CVD炉_鸿峰窑炉外热式电炉设备

气相沉积cvd炉是一款适用于工矿企业、科研院所做实验、中试、产业化生产使用，其主要针对硅碳材料，锂离子电池负材料，稀土功能材料，金属结构材料等新兴材料*外热式气氛回转炉。具有良好的密封措施和炉膛负压，炉内温度可达1100℃。

我公司咸阳鸿峰窑炉设备有限公司较早进入这一领域的厂家，与该领域研究的前沿科研院所长期保持交流沟通，炉体的结构设计及工艺实现得到了很多人士的认可，西北工业大学及哈尔滨工业大学的都给予了很多改进意见，经过多年的研究*，公司现研发的新一代CVD炉具有设计合理，运行稳定，成品规格高，良率高，节能环保等特点，可规模化应用于工业生产领域。

活性炭再生--气氛式回转炉

1、主要技术参数 

（1）生产方式： 周期生产 

（2）煅烧方式： 动态回转式煅烧 

（3）工作区尺寸：炉胆恒温区总长600mm，内径φ200mm

（4）恒温区总体积：18.8L 

（5）使用功率：加热功率   12Kw(满负荷) 

（6）额定电压：  380V50HZ 

（7）设计温度：RT~1000℃（温度的高低取决于内胆材质）

（8）测温点：三个 

（9）控温区数：三区   

（10）温控精度：&plu*n;2℃ 

（11）炉胆转速：0~2.5r/min 

（12）设备外形尺寸：L1400mm×W1200mm×H1400mm终以制造为准）

使用范围

1、该产品是实验室常用高温实验设备，适用于粉体材料和颗粒状材料的高温加热。

2、耐火材料鸿峰公司均选用热稳定性好、升温速率快、节能、密度低、自身蓄热很小的真空浇筑成型的纤维制作。鸿峰公司选择的材料带来比别的窑炉拥有更加节能的特点。

3、采用的温控表进行控温。温度控制采用PID控制方式，具有结构简单、稳定可靠、调整方便、适用范围广等优点。可以根据工艺设置不同的温度曲线，不同的升温时间和保温时间。升温均匀可控

4、可以实现物料在炉内运行时间的控制。

5、可以实现各种不同烧结制度下的煅烧。可以满足物料需要的不同升温速率以及恒温时间以及降温时间。

6、可以实现催化剂材料、磁性材料、粉末冶金、有色金属材料及高领土非金属矿物材料的粉体或颗粒的干燥、煅烧、高温反应、热处理、碳化。

产品特点

1.该设备为连续式生产设备，一端进料一端出料。

2.该设备为动态煅烧，物料在炉内受热均匀，无生烧，夹生少，过烧现象。

3.该设备炉衬全部采用轻质耐火材料，采用真空浇筑技术。

4.该设备的使用温度一般不高于1100度。

5.该设备炉管一般采用牌号为SUS310S的耐热合金（炉膛材质可以选择不同牌号的刚玉，石英和金属）。

6.该设备可以通入多种不同的保护气体，可以使炉内形成某种纯洁的气氛。

7.该设备采用380V电压。

8.该设备电热元件镶嵌在轻质耐火材料内部，结构合理。

9.该设备为多点测温，采用热电偶进行温度的测量。

10.该设备温度控制采用PID模式。