沈阳鹏程(图)-磁控溅射沉积设备厂家-磁控溅射沉积设备

磁控溅射镀膜设备的主要用途

沈阳鹏程真空技术有限责任公司——*磁控溅射产品供应商，我们为您带来以下信息。

1.各种功能性的薄膜镀膜。所镀的膜一般能够吸收、透射、反射、折射、偏光等效果。

2.时装装饰领域的应用，比如说各种全反射镀膜以及半透明镀膜，可适用在手机外壳、鼠标等产品上。

3.微电子行业领域中，其是一种非热式镀膜技术，磁控溅射沉积设备哪家好，主要应用在化学气象沉积上。

4.在光学领域中用途巨大，比如说光学薄膜(如增透膜)、低辐射玻 璃和透明导电玻璃等方面得到应用。

5.在机械行业加工中，其表面功能膜、超硬膜等等。其作用能够提供物品表面硬度从而提高化学稳定性能，能够延长物品使用周期。

小型磁控溅射仪的优势

设备主要优势

实用性：设备集成度高，结构紧凑，占地面积小，可以满足客户实验室空间不足的苛刻条件；通过更换设备上下法兰可以实现磁控与蒸发功能的转换，实现一机多用；

方便性：设备需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接线及安装调试简单，既保证了设备使用方便又保证了设备的整洁；

高性价比：设备主要零部件采用进口或国内品牌，以国产设备的价格拥有进口设备的配置，磁控溅射沉积设备厂家，从而保证了设备的质量及性能；

安全性：*开发的PLC 触摸屏智能操作系统在传统操作系统的基础上新具备了漏气自检与提示、通讯故障自检、*维护提示等功能，保证了设备的使用安全性能；

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直流磁控溅射技术的原理

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直流磁控溅射技术其原理是：在磁控溅射中，由于运动电子在磁场中受到洛仑兹力，它们的运动轨迹会发生弯曲甚至产生螺旋运动，其运动路径变长，因而增加了与工作气体分子碰撞的次数，使等离子体密度*，从而磁控溅射速率得到很大的提高，而且可以在较低的溅射电压和气压下工作，降低薄膜污染的倾向；另一方面也提高了入射到衬底表面的原子的能量，磁控溅射沉积设备，因而可以在很大程度上改善薄膜的质量。同时，经过多次碰撞而丧失能量的电子到达阳*时，已变成低能电子，从而不会使基片过热。因此磁控溅射法具有“高速”、“低温”的优点。