东莞市仁睿电子科技(图)-头盔光学镀膜供应商-头盔光学镀膜

真空镀膜主要利用辉光放电将ya气(Ar)离子撞击靶材(target)表面， 靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好，头盔光学镀膜供应商，但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用*磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的亚气离子化， 造成靶与亚气离子间的撞击机率增加，提高溅镀速率。一般金属镀膜大都采用直流溅镀，而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀，基本的原理是在真空中利用辉光放电将亚气离子撞击靶材表面。

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理论和实测光谱经常存在着误差。解决的方法通常有两种，一种是通过工艺来控制这些偏离光学镀膜的误差，一种是修正现有软件计算模型。具体采用哪种工艺，将通过后文中的具体案例来讨论。

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