铜自动抛光设备原理
铜自动抛光设备是利用离子来做抛光用途的,在设备槽内加水放下4%的抛光盐,不同材料的抛光、抛光盐也不同,搅拌均匀、加热至沸腾,把产品挂在挂具上、通电沉到槽子里面,此时抛光盐被离化后分成两部分、一部分和产品表面产生微弱反应形成微腐蚀、一部分形成离子流轰击产品表面、离子有个特点有放电作用、利用这特点可以把产品微观高的部分给打掉、再加上微腐蚀、随着时间推移工件表面慢慢就会被离子打平整。
铜自动抛光设备对表层的影响
铜自动抛光设备是物理反应和化学反应并存的,当产品通电沉到抛光槽里面时、产品接触到抛光盐溶液的那一瞬间、电场的作用将抛光盐溶液电离成大量的酸根离子、酸根离在电场的作用下闯击产品表面一部分形成放电、把产品微观高的地方给直接闯击掉,另外这些酸根离子还会和产品表面的材料成分发生化学反应、形成微弱的溶解、微观高的地方不断被溶解和打掉、所以会慢慢去掉高的部分、也就是慢慢变平整、启动抛光的作用。八溢自动化设备有限公司生产的铜自动抛光设备设备、、操作简单方便。
铜自动抛光设备机抛光完成后为什么要过水
铜自动抛光设备机抛光完成后、挂具从抛光液里面升起来、此时产品上温度也接近100度,残留在产品表面的抛光盐水分很快蒸发掉、留下抛光盐的痕迹附在产品表面上,如果不即时清洗掉将会影响下工序、或者长时间会造成产品不良,所以得抛光完成后立即过水将表面处理抛光盐清洗干净、要求不严格的产品只需过记到自来水即可、但会有少许水积,要求严格的产品还得过纯水和超音波、可以保证产品干净无水迹。
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