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2.化学抛光
化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解,从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备,可以抛光形状复杂的工件,可以同时抛光很多工件,。化学抛光的核心问题是抛光液的配制。化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10μm。
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在石材干抛和抛水的过程中,我们发现石材干抛和抛水的操作各有优势。
干抛光:石抛光由石抛光轮进行,不添加水。 由于抛光轮在操作过程中会产生热量,因此很容易对石材表面造成磨损。 但干抛光方法由于直接与石材表面接触而具有更好的抛光效果。
水抛光:在加水的条件下,用石材抛光轮抛光石材。 它减少了对石材表面的损害,抛光盘生产厂家,但另一方面,它可能使抛光效果低于预期。
因此,关于石材抛光轮的干燥和水抛光没有固定的想法。 只有合理利用其优缺点,才能达到预期的效果。
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模具抛光的方法主要有:
1.机械抛光
机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法,一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等,以手工操作为主,特殊零件如回转体表面,抛光盘,可使用转台等辅助工具,抛光盘批发商,表面质量 要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特定的磨具,在含有磨料的研抛液中,紧压在工件被加工表面上,作高速旋转运动。利用该技术可以达到Ra0.008μm的表面粗糙度,是各种抛光方法中蕞高的。光学镜片模具常采用这种方法。