镁合金微弧氧化表面要求-镁合金微弧氧化-日照微弧养护技术

微弧氧化技术是北京师范大学核科学与技术学院（低能核物理研究所）（北京市辐射中心）1992年起开发的科研课题，先后得到*教委、*九五863高技术研究发展计划、*自然科学基jin的大力支持。1997-1998年完成*“863”计划项目“等离子体微弧氧化表面改性技术”，1997年12月“铝合金微弧氧化技术”通过*教委和863*组的联合*鉴定。2002年微弧氧化设备获得**新产品证书，2004年微弧氧化双*性大功率脉冲电源获得发明专利。微弧氧化技术、微弧氧化生产线、微弧氧化电源

微弧氧化的发展方向

在工业应用的范围内，微弧氧化氧化工艺在下面几个方向的发展是值得关注的：

①标准电解质的商业化及各种型号与系列电源的深化，镁合金微弧氧化加工，并且通过复配电解质而扩展阀金属的范围，从而使微弧氧化的应用范围扩大；

②通过*网络及相应的质量控制模型对微弧氧化工艺进行优化，工艺的改进（比如鼓入气泡以及超声波震动）；

③ 微弧氧化与其它技术的复合应用。微弧氧化电源

微弧氧化陶瓷膜的表面粗糙度随着氧化时间的延长近似呈线性增长。这是由于氧化膜的表面粗糙度与膜层的厚度有直接关系，而膜层的增厚过程是在*高的能量条件下陶瓷膜的重复击穿过程。在氧化初期，作用在膜层上的能量较低，产生的熔融物颗粒较少，膜层的表面粗糙度较低；随着时间的延长，镁合金微弧氧化黑色膜，膜层表面的能量密度逐渐*，镁合金微弧氧化表面要求，熔融的氧化产物增多，并通过微孔喷射到表面。在电解液液淬作用下，氧化物冷却凝固，并发生多次击穿。在这种熔融、凝固、再熔融、再凝固的过程中，镁合金微弧氧化，产生的氧化物颗粒黏附在陶瓷层表面的数量增多，从而*了膜层表面的粗糙度。另外，在成膜过程中同时存在氧化膜的溶解过程，因此，若时间足够长，膜层在溶解过程中其表面粗糙度也会出现小幅度的下降。