制版-光刻版-制版厂家

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，制版，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

掩膜版是对匀胶铬版经过光绘加工后的产品。匀胶铬版（光掩膜基版）由玻璃基板、铬层、氧化铬层和光刻胶层构成的。通过光刻制版工艺，将微米级和纳米级的精细图案刻制于掩膜版基板上从而制作成掩膜版。

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刻蚀或离子注入完成后，将进行光刻的后一步，即将光刻胶去除，以方便进行半导体器件制造的其他步骤。通常，半导体器件制造整个过程中，会进行很多次光刻流程。生产复杂集成电路的工艺过程中可能需要进行多达50步光刻，制版哪家好，而生产薄膜所需的光刻次数会少一些。

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通过金属化过程，在硅衬底上布置一层仅数纳米厚的金属层。然后在这层金属上覆上一层光刻胶。这层光阻剂在*（一般是紫外线）后可以被特定溶液（显影液）溶解。使特定的光波穿过光掩膜照射在光刻胶上，可以对光刻胶进行选择性照射（*）。然后使用前面提到的显影液，溶解掉被照射的区域，这样，光掩模上的图形就呈现在光刻胶上。通常还将通过烘干措施，改善剩余部分光刻胶的一些性质。