耐转移铜箔主要用于绝缘要求比较高的印制线路板上,如果铜箔被制成线路板后,发生铜离子转移,则对基板的绝缘可靠性会造成相当大的影响。因此必须对铜箔表面进行特殊的处理(如镀镍等),紫铜箔品牌,以*铜的进一步离子化及进一步转移。
低轮廓铜箔(LP铜箔)、甚低轮廓铜箔(VLP铜箔)要用于多层线路板上,它要求铜箔表面粗糙度比普通铜箔小。此外,紫铜箔*,某些高频线路使用的铜箔,紫铜箔密度,它的表面近乎平滑,即超低轮廓铜箔(VLP铜箔),它的表面粗糙度比普通铜箔更小。规定LP铜箔两面轮廓度不大于10..2微米,VLP铜箔两面轮廓度不大于5.1微米。
载体铜箔;超薄铜箔的生产大多采用具有一定厚度的金属支承箔作为阴*,宁波紫铜箔,在其上电沉积铜,然后将镀上的超薄铜箔连同阴*的支承金属箔一同经热压,固化压制在绝缘材料板上,再将用作阴*的金属支承箔用化学或机械方法剥离除去。这种在载体上电沉积的超薄铜箔称为载体铜箔,作为电沉积载体的金属可包括:不锈钢、镍、铅、锌、铬、铜、铝等,但以上金属有的不易加工成箔材;有的加工成箔材价格太昂贵;有的加工成箔材砂眼*太多;有的表面不易处理、对铜箔有污染。
电解铜箔发展至今,生产技术、设备制造以及生产产量等关键项均走在世界前列的。国内虽然在2 0 世纪 9 0年代末相继起来了一批电解铜箔制造厂商,目前资料显示国内能够批量生产高质量 l 2 微米以下电解铜箔用于P C B 行业的在2012年左右先后调试出8~12um各类特殊要求铜箔,开始批量生产,暂时国内领1先。就国内电解铜箔行业的今后发展目前还需国家的相关政策扶持以及走强强联合( 技术、资金) 之路,国内铜箔方可更上一层楼。