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一般金属镀膜大都采用直流溅镀,B级车灯杯加工,而不导电的陶磁材料则使用RF交流溅镀,基本的原理是在真空中利用辉光放电(glow discharge)将***气(Ar)离子撞击靶材(target)表面,电浆中的阳离子会加速冲向作为被溅镀材的负电*表面,这个冲击将使靶材的物质飞出而沉积在基板上形成薄膜。...........................
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