恩诺*纳米混悬液均质机
恩诺*纳米混悬液均质机,恩诺*高转速均质机,恩诺*高剪切均质机,恩诺*分散均质机
（洽谈：1-7-3-6-8-3-4-7-9-6-0）
恩诺*(Enrofloxacin，ENR)又名*环丙*，是动物*的第三代喹诺酮类菌药，其作用机理是通过**DNA螺旋酶达到菌效果，在动物体内的代谢主要是脱去*而成为环丙*。ZKE/中新宝设计的高剪切均质机能够将恩诺*混悬液进行细化分散均质，更好的吸收。
影响分散乳化结果的因素有以下几点
1 乳化头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次好）
2 乳化头的剪切速率（越大，效果越好）
3 乳化头的齿形结构（分为初齿，中齿，细齿，超细齿，约细齿效果越好）
4 物料在分散墙体的停留时间，乳化分散时间（可以看作同等的电机， 流量越小，效果越好）
5 循环次数（越多，效果越好，到设备的期限，就不能再好） 线速度的计算
剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
– 剪切速率(s-1) = v 速率(m/s) g 定-转子间距(m)
由上可知，剪切速率取决于以下因素：
– 转子的线速率
– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子间距。SGN 定-转子的间距范围为0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速RPM / 60 2.2.1 浆料稳定性理论
大部分的浆料都是属于悬浮液体系。不稳定的悬浮液在静止状态下发生絮凝，并由于重力作用而很快分层，分散的目的就是要在产品的有效期内
絮凝、防止分层，维持悬浮颗粒的均匀分布，提高产品的稳定性。2.2.1.1 悬浮液的絮凝理论
絮凝作用即是在静态（由于布朗运动）或动态（在剪切力作用下条件下， 通过颗粒碰撞引起颗粒数目减少的过程。胶体系统中，如不考虑稳定剂， 颗粒间的相互作用主要有范德华（Vander Waals）引力；伴随着带电颗粒的库仑（Coulombic）力（斥力或引力）。这些力的起因截然不同。
|
型号 |
标准流量L/H |
输出转速Rpm |
标准线速度m/s |
马达功率KW |
进口尺寸 |
出口尺寸 |
|
KMZS20002000/4 |
300-1，000 |
18，000 |
51 |
4 |
DN25 |
DN15 |
|
KMS20002000/5 |
1，000-1,500 |
13，500 |
51 |
11 |
DN40 |
DN32 |
|
KMS20002000/10 |
3，000 |
9，300 |
51 |
22 |
DN50 |
DN50 |
|
KMS20002000/20 |
8，000 |
3，600 |
51 |
37 |
DN80 |
DN65 |
|
KMS20002000/30 |
20，000 |
3，600 |
51 |
75 |
DN150 |
DN125 |
|
KMS20002000/50 |
40，000 |
2，500 |
51 |
160 |
DN200 |
DN150 |
恩诺*纳米混悬液均质机,恩诺*高转速均质机,恩诺*高剪切均质机,恩诺*分散均质机
