吉他抛光蜡-杰来宝抛光液-抛光蜡

抛光蜡简介

抛光蜡的主要成分：硬脂酸、软脂酸、松香等粘剂，加上磨米，亚克力抛光蜡，如：长石粉、氧化铬、刚玉、铁红等，金属抛光蜡，根据不同基体成分和要求制成不同的细度和品种。

抛光工序分为三步：粗抛、中抛和精抛。要获得蕞佳性能必须选用有针对性的抛光蜡。

芜湖杰来宝生产的抛光蜡成方形，吉他抛光蜡，使用方便。用不同的颜色表示不同品种的抛光蜡，避免使用时混乱。高含量的磨料可以加速整个抛光过程。这个过程是抛光蜡抛光轮表面移动而使材料变得光滑。

通过检查油脂是否存在残留来确认抛光蜡有没有生命力。在抛光研磨过程中，在瞬间的高温高压情况下所形成的残留。是用肉眼难以辨别的。即便使用除蜡水也都难以清除，这就是*的残留。该物质犹如一层镀膜般粘附在工件表面，抛光蜡，*影响抛光质量的也就是这种残留，直接导致无法出光或者出光不足。因此油脂的处理是决定抛光材料抛光蜡是否具有生命力的前提。时间一长，该物质会因为氧化而脱落，在工件表面形成斑驳。

氧化硅抛光液（CMP抛光液）是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料GaAs、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。

Ce02抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的Ce02研磨液，该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。适用于高精密光学仪器，光学镜头，微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。

氧化铝和碳化硅抛光液是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液，主要成分是微米或亚微米级的磨料。主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。

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