抛光蜡-抛光蜡哪个好-芜湖杰来宝(推荐商家)
氧化硅抛光液（CMP抛光液）是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料GaAs、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。
Ce02抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的Ce02研磨液，该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。适用于高精密光学仪器，光学镜头，微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。
氧化铝和碳化硅抛光液是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液，主要成分是微米或亚微米级的磨料。主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。
抛光的原理：
一：因为需要抛光的产品硬度高于被抛光表面金属的硬度和良好的韧性、否则无法实现磨削。
二：抛光蜡要具有良好的耐热性和热稳定性，因为抛光过程中，随着抛光轮的高速旋转磨擦、被抛光表面的温度急剧升高。（温度可达120——500度以上）如果磨料易热分解，其硬度和韧性会下降，影响抛光效果。
三：具有良好的稳定性，抛光蜡厂，在工作温度下抛光蜡不与被抛光表面发生任何化学反应，否则抛光蜡与固有的机械性能发生变化，影响被抛光表面的光洁度。
抛光蜡的硬度应高于材料表面的硬度和韧性。良好的耐热性和热稳定性。由于抛光材料的抛光过程中，抛光轮高速旋转摩擦，所以温度会急剧上升，抛光温度120-500度，如果磨料容易分解，硬度和韧性会容易下降，抛光效果的影响。抛光材料具有良好的稳定性。抛光材料的良好稳定性有利于抛光蜡在工作温度下与抛光表面无任何化学反应。
抛光蜡要配合抛光轮使用，使用抛光蜡抛光产品工序分为三步：粗抛、中抛和精抛，细抛。抛光蜡分为：青蜡，紫蜡，蓝蜡，黑蜡，黄蜡，一般情况下用不同的颜色表示不同品种的抛光蜡，避免使用时混乱，抛光蜡，颜色不同的抛光蜡抛光效果不一样，比如黑蜡是开粗使用，也就是粗抛光，抛光蜡批发，青蜡是精抛，高含量的磨料可以加速整个抛光过程。
抛光蜡配合抛光轮使用，抛光产品的时候抛光轮的转动方向朝向你自己，转速获得足够的速度，将抛光蜡轻轻靠在轮子边缘，并确保在转动轴水平面的下方，直到表面覆盖满蜡。用一块干净的金属件轻轻靠在轮表面几秒钟，使蜡展开。反复几次，使蜡均匀覆盖在表面上。当表面完全覆盖上蜡后，抛光蜡哪个好，就可以进行抛光工序了。必要时可再涂抛光蜡于轮上。用做粗抛、中抛（切削抛）、精抛（上光）的轮子应该分开，而且务必分开，否则上光过程将被粗糙的颗粒划伤表面。
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