丽水光罩

光呆板业界别称光掩模板、掩膜版，光罩，英文名字MASK或PHOTOMASK），材料：石英玻璃、金属铬和光感应胶，该商品是由石英玻璃或是碳酸钠夹层玻璃做为衬底，在其上边镀上一层层金属铬和光感应胶。在塑料薄膜、塑胶或夹层玻璃化学反应原材料上制做各种各样作用图型并精i明确位，便于用以光致*蚀剂镀层可选择性曝i光的这种构造，称之为光刻掩模板。

掩膜除了应用于芯片制造外，还广泛的应用与像LCD，PCB等方面。常见的光掩膜的种类有四种，光罩，铬版(chrome)、干版，凸版、液体凸版。主要分两个组成部分，基板和不透光材料。基板通常是高纯度，低反射率，低热膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约0.1um的铬层。铬的硬度比玻璃略小，虽不易受损但有可能被玻璃所伤害。

在刻画时，采用步进机刻画(stepper)，其中有电子束和激光之分，激光束直接在涂有铬层的4-9“ 玻璃板上刻画，边缘起点5mm，与电子束相比，其弧形更逼真，线宽与间距更小。

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

掩膜版的制作方法

提供一种掩膜版，包括对盒设置的第i一基板和第二基板；所述第i一基板下方设有阵列像素单元，每个所述像素单元包括i 一个薄膜晶体管 TFT ；所述第二基板上方设有透明导电层；所述透明导电层和所述阵列像素单元之间填充液晶；所述透明导电层和所述阵列像素单元表面分别设有配向膜层，用于使液晶分子沿 所述配向膜层表面的取向槽排列； 所述第i一基板上方设有第i一偏光器件；所述第二基板下方设有第二偏光器件；还包括驱动单元，用于向所述阵列像素单元施加等级电压，以控制所述掩模版的 入射光通过强度。