不锈钢抛光液-抛光液-杰来宝抛光蜡生产

通过检查油脂是否存在残留来确认抛光蜡有没有生命力。在抛光研磨过程中，在瞬间的高温高压情况下所形成的残留。是用肉眼难以辨别的。即便使用除蜡水也都难以清除，这就是*的残留。该物质犹如一层镀膜般粘附在工件表面，*影响抛光质量的也就是这种残留，直接导致无法出光或者出光不足。因此油脂的处理是决定抛光材料抛光蜡是否具有生命力的前提。时间一长，该物质会因为氧化而脱落，在工件表面形成斑驳。

氧化硅抛光液（CMP抛光液）是以高纯硅粉为原料，不锈钢抛光液，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料GaAs、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。

Ce02抛光液是以微米或亚微米级CeO2为磨料的Ce02研磨液，家具抛光液，该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。适用于高精密光学仪器，光学镜头，微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。

氧化铝和碳化硅抛光液是以超细氧化铝和碳化硅微粉为磨料的抛光液，主要成分是微米或亚微米级的磨料。主要用于高精密光学仪器、硬盘基板、磁头、陶瓷、光纤连接器等方面的研磨和抛光。

抛光蜡的常用使用方法如下：

1.机械抛光使用抛光蜡：

机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法，一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具，表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用定制的磨具，抛光液，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件被加工表面上，作高速旋转运动，配合抛光蜡使用。

2.化学抛光使用抛光蜡：

化学抛光是让材料在化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。这种方法的主要优点是不需复杂设备。

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