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太阳能电池片生产厂家-太阳能电池片回收-振鑫焱光伏科技

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视频作者:苏州振鑫焱光伏科技有限公司





电池片的制作工艺

振鑫焱光伏科技有限公司常年采购:*回收硅片,电池片,初级多晶硅,银浆布,单晶硅,多晶硅,太阳能电池,光伏组件,太阳能电池板,客户撤退,降级,库存,El,不良测试,二手,旧,工程,拆卸,路灯,拆解电站,拆卸,胶合板,层压板,无边界晶体硅,太阳能电池片生产厂家,多晶硅,单晶硅,实验板,*偿还,返工,光伏模块回收等。


影响因素

1. 印刷压力的影响

在印刷过程中刮胶要对丝网保持一定的压力,且这个力必须是适当的。印刷压力过大,易使网版、刮胶使用寿命降低,使丝网变形,导致印刷图形失真。印刷压力过小,易使浆料残留在网孔中,造成虚印和粘网。在适当的范围内加大印刷压力,透墨量会减小(浆料湿重减小),栅线高度下降,宽度上升。

2. 印刷速度的影响

印刷速度的设定必须兼顾产量和印刷质量。对印刷质量而言,印刷速度过快,浆料进入网孔的时间就短,对网孔的填充性变差,印刷出的栅线平整性受损,易产生葫芦状栅线。印刷速度上升,栅线线高上升,线宽下降。印刷速度变慢,下墨量增加,湿重上升。

3. 丝网间隙的影响

在其他条件一定的情况下,丝网间隙与湿重大致有如右图的关系:两者几乎呈比例上升,之后丝网间隙加大,湿重降低,****后突然变为零。丝网印刷时使用的是曲线的前半段(即呈比例上升段)。由此可知,丝网间隙加大,下墨量多,湿重*。丝网间隙过大,太阳能电池片回收多少钱,易使印刷图形失真;过小,容易粘网。 刮胶硬度的影响 刮胶材料一般为聚胺脂或氟化橡胶,硬度 60 -90A 。刮胶硬度越大,印刷的图形越准确,原图的重现性越好。因此,正面栅线的印刷就需要选用硬度较高刮胶。刮胶硬度小,其他参数不变的情况下湿重就大,线高增加,线宽变大。




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影响因素

1 .频率

射频 PECVD 系统大都采用 50kHz~13.56 MHz 的工业频段射频电源。较高频率( gt;4MHz )沉积的氮化硅薄膜具有更好的钝化效果和稳定性。

2 .射频功率

增加 RF 功率通常会**** SiN 膜的质量。但是,****太阳能电池片回收,功率密度不宜过大,超过 1W/cm2 时器件会造成严重的射频损伤。

3 .衬底温度

PECVD 膜的沉积温度一般为 250 ~ 400 ℃ 。这样能保证氮化硅薄膜在HF 中有足够低的腐蚀速率,并有较低的本征压力,从而有良好的热稳定性和*裂能力。低于 200 ℃ 下沉积的氮化硅膜,本征应力很大且为张应力,而温度高于 450 ℃ 时膜容易龟裂。

4 .气体流量

影响氮化硅膜沉积速率的主要气体是 SiH4 。为了****富硅膜,选择NH3/SiH4=2~20 (体积比)。气体总流量直接影响沉积的均匀性。为了****反应区下游反应气体因耗尽而降低沉积速率,通常采用较大的气体总流量,以保证沉积的均匀性。

5 .反应气体浓度

SiH4 的百分比浓度及 SiH4/NH3 流量比,对沉积速率、氮化硅膜的组分及*性质均有重大影响。

理想 Si3N4 的 Si/N = 0.75 ,而 PECVD 沉积的氮化硅的化学计量比会随工艺不同而变化,但多为富硅膜,可写成 SiN 。因此,必须控制气体中的 SiH4 浓度,不宜过高,并采用较高的 SiN 比。除了 Si 和 N 外, PECVD 的氮化硅一般还包含一定比例的氢原子,即 SixNyHZ 或 SiNx :H 。

6 .反应压力、和反应室尺寸 等都是影响氮化硅薄膜的性能工艺参数。





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影响因素

1. 温度

温度 T 越高,扩散系数 D 越大,扩散速度越快。

2. 时间

对于恒定源:时间 t 越长结深越深,但表面浓度不变。

对于限定源:时间 t 越长结深越深,表面浓度越小。

3. 浓度

决定浓度是因素:氮气流量、源温。

表面浓度越大,扩散速度越快。

4. 第三组元

主要是掺硼量对扩散的影响,杂质增强扩散机制。在二元合金中加入第三元素时,扩散系数也会发生变化。掺硼量越大,扩散速率越快。即电阻率越小,越容易扩散。

控制点

方块电阻,外观,单片均匀性,整管均匀性。

方块电阻: 表面为正方形的半导体薄层在电流方向所呈现的电阻。 R= 电阻率 *L/S, 对方块硅片,长度等于宽度,则 R= 电阻率 / 厚度,方块电阻~ ( 1/ Ns*Xj) Ns :电化学浓度, Xj :扩散结深。




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