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电池片回收-振鑫焱组件行情-废电池片回收

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视频作者:苏州振鑫焱光伏科技有限公司





电池片的检验

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背电场:

A 级:

背电场完整,厚薄均匀,允许有缺失,缺失面积不超过背电场总面积的 5% ,变色面积不超过背电场面积的 15% 。

新的标准:背电场完整,厚薄均匀,不允许有缺失

B 级:

允许有缺失,缺失面积不超过背电场总面积的 10% ,变色面积不超过背电场面积的 30% 。

新的标准:允许有缺失,缺失面积不超过背电场总面积的 5% ,变色面积不超过背电场面积的 15% 。

C 级:

允许有缺失,缺失面积不超过背电场总面积的 10% ,电池片回收价格,变色面积不超过背电场面积的 50% 。

新的标准:缺失面积不超过背电场总面积的 5% ,变色面积不超过背电场面积的 50% 。

粗点:

A 级:

粗点宽度≤ 0.18mm ,个数小于 2 个

新的标准:不允许有粗点

B 级:

粗点宽度≤ 0.25mm ,个数小于 5 个

新的标准:允许有粗点,粗点宽度≤ 0.18mm ,个数小于 2 个

C 级:

粗点宽度≤ 0.3mm ,个数小于 8 个

新的标准:当主栅线或副栅线有明显粗细不均时,应用刻度显微镜进行查检。




非晶硅片

非晶硅片

非晶硅太阳电池是1976年有出現的新式塑料薄膜式太阳电池,它与单晶硅和多晶硅太阳光电池的制作方式*不一样,硅材料耗费非常少,热耗更低,十分吸引住人。生产制造非晶硅太阳电池的方式有多种多样,****普遍的是辉光放电法,也有反应溅射法、化学气相沉积法、电子束蒸发法和分解反应*法等。辉光放电法是将一方解石器皿抽成真空,用射频电源加温,使*电离,产生等离子技术。非晶硅膜就堆积在被加温的衬底上。若*中掺人适当的氢化磷或氢化硼,就能获得N型或P型的非晶硅膜。衬底原材料通常用夹层玻璃或不锈钢板材。这类制取非晶硅塑料薄膜的加工工艺,关键在于严控标准气压、水流量和频射输出功率,对衬底的溫度也很关键。非晶硅太阳电池的构造有各种各样不一样,在其中有种不错的构造叫PiN充电电池,这是在衬底上先堆积一层层掺磷的N型非晶硅,再堆积一层层未夹杂的i层,随后再堆积一层层掺硼的P型非晶硅,****终用电子束蒸发一层层减反射膜,并蒸镀镍/镀银电级。此类加工工艺,能够选用一个一个堆积室,在生产制造中组成持续程序流程,以保持批量生产。一起,非晶硅太阳电池太薄,能够做成层叠式,或选用集成电路芯片的方式生产制造,在1个平面图上,用适度的掩模加工工艺,一回制做好几个串连充电电池,以得到较高的工作电压。由于一般结晶硅太阳电池单独只能0.5伏上下的工作电压,如今日本国生产制造的非晶硅串连太阳电池达到2.4伏。现阶段非晶硅太阳电池存在的不足是光学变换****率稍低,好的水准为10%上下,且不足平稳,经常出现变换****率衰降的状况,因此并未很多用以作大中型太阳能发电开关电源,而大多数用以暗光开关电源,如袖珍式电子计算器、电子器件时钟及打印机等层面。



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外扩散种类

1.稳定源外扩散:在稳态外扩散的标准下,企业時间内根据垂直平分外扩散方位的企业总面积的外扩散品质与该横截面处的浓度梯度正比。

2.限制源外扩散:在再遍布全过程中,外扩散是在限制源的标准下进有的,全部外扩散全过程的残渣源,限制于外扩散前积淀在硅片表层的*限薄层内的残渣总产量,沒有外地人残渣填补即在硅片表层处的残渣流相对密度。

生产车间应用的是二步外扩散:预淀积外扩散。预扩散是稳定源外扩散,关键是促使硅片表层汽体浓度值相同,维持整批方块电阻是匀称性。主外扩散是限制源外扩散,而且在主外扩散后进入大氮汽体,做为推动汽体,增加PN结深度。



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