抛光过程分为两个步骤,切削和****终抛光。这两步都要用到抛光垫和抛光浆。切削过程是去除硅上薄薄的一层,以生产出表面没有损伤的晶圆片。****终抛光并不去除任何物质,只是从抛光表面去除切削过程中产生的微坑。
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SEMI版的全球集成电路制造厂预测报告揭示,半导体厂2010年的支出预计将上升至300多亿美元,较2009年同比增长88%。不少代工厂和存储器公司在过去的几个月内宣布了增加资本开支的计划。此外,一部分之前“*”的项目也将陆续解冻,
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在各大科技厂商中,IBM是建议将碳纳米管应用于微电子领域的*支持者之一,该公司已经明确表示希望碳纳米管技术将在接下来的十年内准备就绪,届时预计半导体芯片的尺寸将缩小至5纳米的****限尺寸。但截至目前,各大学和芯片厂商的研究人员还只能成功地将碳纳米管用于单独器件的制作,如制作晶体管等。
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