净化间的特点
乱流洁净室的主要特点是从来流到出流(从送风口到回风口)之间气流的流通截面是变化的,千级净化间公司,洁净室截面比送风口截面大得多,因而不能在全室截面或者在全室工作区截面形成匀速气流。所以,送风口以后的流线彼此有很大或者越来越大的夹角,曲率半径很小,气流在室内不可能以单一方向流动,将会彼此撞击,将有回流、旋涡产生。这就决定乱流洁净室的流态实质是:突变流;非均匀流。这比用紊流来描述乱流洁净室更确切。紊流主要决定于雷诺数,也就是主要受流速的影响,但是如果采用一个****过滤器顶送的送风形式,则即使流速****低,也要产生上述各种结果,这就因为它是一个突变流和非均匀流。因此这种情况下不仅有流层之间因紊流流动而发生的掺混,温湿度净化间公司,而且还有全室范围内的大的回流、旋涡所发生的掺混。
以上内容由北京沃知和实验室工程技术有限公司为您提供,欢迎各位朋友拨打热线电话!
净化间的恒温
以下内容由北京沃知和实验室工程技术有限公司为您提供,欢迎各位朋友拨打热线电话!
直径100 um的硅片,温度上升1度,就引起了0.24um线性膨胀,所以必须有±0.1度的恒温,同时要求湿度值一般较低,因为人出汗以后,对产品将有污染,特别是怕钠的半导体车间,这种车间温度不宜超过25度,湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时,冷却水管壁上会结露,如果发生在精密装置或电路中,济源净化间公司,就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外,湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高,粘附的越难去掉,食品净化间公司,但当相对湿度低于30%时,又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面,同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产湿度范围为35—45%。
净化间的相关文件
以下内容由北京沃知和实验室工程技术有限公司为您提供,欢迎各位朋友拨打热线电话!
●净化车间竣工验收相关文件:主要材料、设备和调节装置、自动控制系统等出厂合格证书或检验文件;各项工程质量检验评定表;净化车间设计文件、设计变更说明及有关协议、竣工图;净化车间里面各种设备性能指标记录;开工、竣工报告、土建隐蔽工程系统、管线隐蔽工程系统封闭记录、管道系统吹洗记录、设备开箱记录、管道压力试验记录、风管检漏记录、中间验收单和竣工验收单。