三氧化二铋靶材Bi2O3靶材磁控溅射靶材

 厂家*  科研实验* Bi2O3靶材 三氧化二铋靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

 纯度 99.99%

产品介绍

   三氧化二铋（氧化铋）用于制备铋盐；用作电子陶瓷粉体材料、电解质材料、光电材料、高温超导材料、催化剂。氧化铋作为电子陶瓷粉体材料中的重要添加剂，纯度一般要求在99.15%以上，主要应用对象有氧化锌压敏电阻、陶瓷电容、铁氧体磁性材料三类；以及釉药橡胶配合剂、医药、红色玻璃配合剂等。

产品参数

  中文名 三氧化二铋                          化学式  Bi2O3
  分子量 465.96                                熔点 825ºC
  沸点 1890（ºC,常压）                    密度 8.9 （g/mL,25/4℃、α型）

陶瓷靶材采用常压烧结,气氛烧结,热等静压烧结等工艺,严格控制原料的纯度,成分及成型坯料额设计尺寸,坯料经过精密机械加工成靶材,可根据客户要求定制加工特殊掺杂比例靶材。

产品优势        靶材纯度高,致密度高,成分均匀
产品规格        图片靶材，矩形靶材，圆柱靶材，台阶片靶材，管型靶材，根据客户的图纸定制
产品用途    磁控溅射镀膜材料等
产品附件    正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单
产品包装    真*装/真空中性包装/特殊包装外加固包装
适用仪器    各类型号磁控溅射设备