真空电镀厂家-瑞泓科技(在线咨询)-真空电镀

东莞真空电镀的化学镀镍层中的磷含量是一个重要因素，它很大程度影响到镍镀层的电阻率，以及防腐功能等，所以，在电镀加工生产中，含磷量成了一个重要的目标。一般咱们区分为低磷，中磷，高磷镀层，真空电镀加工，高磷化学镍在钢铁、铝合金、铜等五金电镀件中应较多，低磷化学镍在塑料电镀件使用或底镀层中使用较多。

关于一个固定化学镀镍配方了，那么含磷量就根本现已固定在一个规模内了，比方咱们挑选的是一个高磷配方，它的磷含量是10-13%左右，那么在操作的过程中磷的含量就根本是在这一个规模里边上下起浮，但不会超出太多。

真空镀膜加工、PVD真空电镀特性

一、金属表面*/颜色均匀一致，持久光泽，在各种正常空气和阳光直射环境条件下长久保持良好外观。颜色深韵、光亮，真空电镀，可减少清洗和擦亮颜色所必须的时间和成本对环境不会产生任何污染，在生产和佩戴过程中避免化学反应具有生物兼容性。

二、镀膜特性

PVD真空镀膜具有****的附着力和耐久力–可以折弯90度以上不发生裂化或者剥落。其它的技术，包括电镀，喷涂等都不能与其相比。任何能够想象出的设计图案都可以蚀刻出来/在内装修或者室外装修都可以使用，*腐蚀能力强。

真空镀膜的方法很多，计有：

(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。

(2)阴****溅射镀：将需镀膜的基体放在阴****对面，把惰性气体通入已抽空的室内，真空电镀厂家，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴****接上2000V的直流电源，真空电镀价格，便激发辉光放电，带正电的亚离子撞击阴****，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。

(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。

(4)离子镀：实质上离子镀系真空蒸镀和阴****溅射镀的有机结合，兼有两者的工艺特点。表6-9列出了各种镀膜方法的优缺点。