公司产品包括石英掩膜版,苏打掩膜版,以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图,定制版图,苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务!
光刻(英语:photolithography)是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤,该步骤利用曝i光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构,然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆,还可以是其他金属层、介质层,例如玻璃、SOS中的蓝宝石。
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集成电路行业中所说的“掩膜”是光掩膜
光掩膜(mask)资料:
在半导体制造的整个流程中,其中一部分就是从版图到wafer制造中间的一个过程,即光掩膜或称光罩(mask)制造。这一部分是流程衔接的关键部分,是流程中造价****i高的一部分,也是限制****i小线宽的瓶颈之一。
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了解菲林特性
菲林实在由良多化学药品组成,成份非常复杂,掩膜版,不是简朴的三言两语可解释得明白。若以显微镜观察,会发现良多时菲林单是感色层及不同成份的显影药膜都超过13层,而不同药膜之间又会随时间及室内环境影响,令品质每况愈下。故大家先要了解菲林特性,才可把它们保留得更好。
至于准确的做法是﹕不要将菲林存放在阳光可直接照射到的地方,同时,湿度太高亦不相宜。由于阳光的热力会影响菲林药膜,使成像后的色调产生变化。而太湿润的空气亦会使菲林表面受水份及空气中的微尘影响,使菲林的表面保护膜产生变化和受损。