9,进口光刻胶 NR9-3000,去胶:湿法去胶,用溶剂、用NONG*。负胶,98%H2SO4 H2O2 胶=CO CO2 H2O,正胶:BIN酮,干法去胶(ash)氧气加热去胶O2 胶=CO CO2 H2O,等离子去胶Oxygenpla*a ashing,高频电场O2---电离O- O , O 活性基与胶反应CO2,CO, H2O, 光刻检验
北京赛米莱德贸易有限公司供应美国Futurrex新型lift-off光刻胶NR9-3000PY,此款负胶的设计适用于比较宽的波长范围和i线(366纳米)*工具。当显影后NR9-3000PY显示出负的侧壁角度,是lift-off工艺中比较简易的光刻胶。和其他胶相比NR9i-3000PY有下面的优势:
光刻胶市场
我国光刻胶市场规模2015年已达51.7亿元,同比增长11%,光刻胶,高于国际市场增速,但全球占比仍不足15%,发展空间巨大。2015年我国光刻胶产量为9.75万吨,进口光刻胶 生产厂家,而需求量为10.12万吨,依照需求量及产量增速预计,未来仍将保持供不应求的局面。据智研咨询估计,得益于我国平面显示和半导体产业的发展,我国光刻胶市场需求,在2022年可能突破27.2万吨。在光刻胶生产种类上,我国光刻胶厂商主要生产PCB光刻胶,而LCD光刻胶和半导体光刻胶生产规模较小,相关光刻胶主要依赖进口。放眼国际市场,光刻胶也主要被美国Futurre*刻胶、日本合成橡胶(JSR)、东京应化(TOK)、住友化学、美国杜邦、德国巴斯夫等化工寡头垄断。