上海思峻*晶种易清洗型研磨均质机

产品名称：上海SGN*晶种纳米级研磨均质机,*晶种研磨均质机,*晶种湿法均质机,*晶种湿法研磨机

（洽谈：1-5-0-2-1-9-8-5-9-1-7）

二、晶种的意义

晶种用以提供晶体生长的位点，以便从均匀的、仅存在一相的溶液中越过一个能垒形成晶核，加入的晶种加速了目标晶型的生长速率，****于得到目标品型。工业制品中，为了得到粒度大且均匀的晶体产品，都要尽可能避免初级成核，控制二次成核，加入适量的晶种作为晶体生长的核心通常是必须的，晶种的制备因此也成为制备晶体的一个重要环节。

晶种的重要性在于所用的晶种是否需要特别工艺获取，如果需要，则需要说明晶种的获取途径，如果晶种的性质有特别要求，需说明晶种的特性及检测方法。另外，晶种与晶型的稳定性也存在一定的关系。例如，也存在某一晶型在别的晶型晶体的表面生长。稳定晶型会在亚稳定型或不稳定型晶型表面成核、生长，直至完全转晶，这是由于两种型的某一晶面的结构相似，溶质分子可以在亚稳定型或不稳定型晶型晶面上直接堆积、排列成稳定晶型。

三、*晶种简介

晶种是在结晶法中可以形成晶核从而加快或****与之晶型或立体构型相同的对映异构体结晶的生长的添加物。加晶种进行结晶是控制结晶过程、****结晶速率、保证产品质量的重要方法之一。

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四、*晶种的粒径要求

目前许多结晶体一般在40-50UM ，下游的客户在处理这些物料有跟高的要求一般需要达到5-10UM  ，传统采用干法气流粉碎 无法达到要求的细度，结合多家客户案例，推荐GMSD20000系列研磨均质机进行晶种研磨细化处理，转速18000rpm，胶体磨+均质机一体化设备，粒径可达D90≤10μm。

五、SGN湿法研磨均质机的结构特点

SGN湿法研磨分散设备采用德国****的高速研磨分散技术，通过超高转速（高可达18000rpm）带动超高精密的磨头定转子（通常配GM+8SF，定转子间隙在0.2-0.3之间）使晶种在设备的高线速度下形成湍流，在定转子间隙里不断的撞击、*碎、研磨、分散、均质，从而得出超细的颗粒（当然也需要合适的分散剂做助剂）。

GMD2000系列研磨均质机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把*概率降到更低，保证机器连续24小时不停机运行。

六、*晶种研磨均质机选型表:

上海SGN*晶种纳米级研磨均质机,*晶种研磨均质机,*晶种湿法均质机,*晶种湿法研磨机