溅射靶材磁控溅射的原理
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
溅射靶材磁控溅射的原理
磁控溅射原理:电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与*原子发生碰撞,电离出大量的*离子和电子,电子飞向基片。*离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响,被束缚在靠近靶面的等离子体区域内,该区域内等离子体密度很高,二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动,该电子的运动路径很长, 在运动过程中不断的与*原子发生碰撞电离出大量的*离子轰击靶材,经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低,摆脱磁力线的束缚,金属靶材生产厂家,远离靶材,江苏金属靶材,****终沉积在基片上。
在电场的作用下,Ar气电离成正离子和电*上加有一定的负高压,从靶****发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率*,在阴****附近形成高密度的等离子体,Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面,以很高的速度轰击靶面,使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。 磁控溅射一般分为二种:直流溅射和射频溅射,其中直流溅射设备原理简单,在溅射金属时,其速率也快。
而射频溅射的使用范围更为广泛,除可溅射导电材料外,金属靶材供应商,也可溅射非导电的材料,同时还司进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。溅射靶材射频的频率****后就成为微波等离子体溅射,目前常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。
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金属靶材相对密度是以什么标准换算的
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年,金属靶材生产厂, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
比重(specific gr*ity)是相对密度(relative density)的旧称。相对密度定义为:某物质的密度与参考物质的密度之比。金属靶材通常是合金靶材才会用到相对密度,相对密度高代表含量高。 实际值除以理论值就是了。
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溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
磁控溅射原理:在被溅射的靶****(阴****)与阳****之间加一个正交磁场和电场,在高真空室中充入所需要的惰性气体,磁铁在靶材料表面形成250~350高斯的磁场,同高压电场组成正交电磁场。 磁控溅射一般分为二种:支流溅射和射频溅射,其中支流溅射设备原理简单,在溅射金属时,其速率也快。
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