真空镀膜靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
靶*的影响因素
影响靶*的因素主要是反应气体和溅射气体的比例,反应气体过量就会导致靶*。反应溅射工艺进行过程中靶表面溅射沟道区域内出现被反应生成物覆盖或反应生成物被剥离而重新暴露金属表面此消彼长的过程。如果化合物的生成速率大于化合物被剥离的速率,化合物覆盖面积增加。在一定功率的情况下,参与化合物生成的反应气体量增加,化合物生成率增加。如果反应气体量增加过度,化合物覆盖面积增加,如果不能及时调整反应气体流量,化合物覆盖面积增加的速率得不到*,溅射沟道将进一步被化合物覆盖,当溅射靶被化合物全部覆盖的时候,靶完全*,在靶面上沉积一层化合金属膜。使其很难被再次反应。
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金属靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话,靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料,不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时,会产生不同的杀伤*效应。例如:蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜、铝膜等。更换不同的靶材(如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、*、防腐的合金膜等)。
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减反射膜
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
原理
减反射膜是以光的波动性和干涉现象为基础的。二个振幅相同,波长相同的光波叠加,那么光波的振幅增强;如果二个光波原由相同,波程相差,金属靶材生产商,如果这二个光波叠加,那么互相抵消了。减反射膜就是利用了这个原理,河南金属靶材,在镜片的表面镀上减反射膜,金属靶材哪里有,使得膜层前后表面产生的反射光互相干扰,从而抵消了反射光,达到减反射的效果。
1)振幅条件
膜层材料的折射率必须等于镜片片基材料折射率的平方根。
2)位相条件
膜层厚度应为基准光的1/4波长。d=λ/4 λ=555nm时,d=555/4=139nm
对于减反射膜层,许多眼镜片生产商采用人眼敏感度较高的光波(波长为555nm)。当镀膜的厚度过薄(〈139nm),反射光会显出浅棕*,如果呈蓝色则表示镀膜的厚度过厚( 〉139nm)。
镀膜反射膜层的目的是要减少光线的反射,但并不可能做到没有反射光线。镜片的表面也总会有残留的颜色,金属靶材生产厂家,但残留颜色哪种是好的,其实并没有标准,目前主要是以个人对颜色的喜好为主,较多为绿色的色系。
我们也会发现残留颜色在镜片凸面与凹面的曲率不同也使镀膜的速度不同,因此在镜片*部分呈绿色,而在边缘部分则为淡紫红色或其它颜色。
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