金属靶材_北京石久高研_金属靶材生产商

镀减反射膜技术

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

镀减反射膜技术

有机镜片镀膜的难度要比玻璃镜片高。玻璃材料能够承受300 °C以上的高温，而有机镜片在超过100 °C时便会发黄，随后很快分解。

可以用于玻璃镜片的减反射膜材料通常采用氟化镁（MgF2），金属靶材生产，但由于氟化镁的镀膜工艺必须在高于200°C的环境下进行，否则不能附着于镜片的表面，所以有机镜片并不采用它。

20世纪90年代以后，随着真空镀膜技术的发展，利用离子束轰击技术，使得膜层与镜片的结合，膜层间的结合得到了改良。而且提炼出的象氧化钛，氧化锆等高纯度金属氧化物材料可以通过蒸发工艺镀于树脂镜片的表面，达到良好的减反射效果。

以下对有机镜片的减反射膜镀膜技术作一介绍。

1）镀膜前的准备

镜片在接受镀膜前必须进行预清洗，这种清洗要求很高，达到分子级。在清洗槽中分别放置各种清洗液，并采用超声波加强清洗效果，当镜片清洗完后，放进真空舱内，在此过程中要特别注意避免空气中的灰尘和垃圾再黏附在镜片表面。****后的清洗是在真空舱内，在此过程中要特别注意避免空气中的灰尘和垃圾再黏附在镜片表面。****后的清洗是在真空舱内镀前进行的，放置在真空舱内的离子枪将轰击镜片的表面（例如用*离子），完成此道清洗工序后即进行减反射膜的镀膜。

2）真空镀膜

真空蒸发工艺能够保证将纯质的镀膜材料镀于镜片的表面，同时在蒸发过程中，对镀膜材料的化学成分能严密控制。真空蒸发工艺能够对于膜层的厚度准确控制，精度达到。

3）膜层牢固性

*镜片而言，膜层的牢固性是至关重要的，是镜片重要的质量指标。镜片的质量指标包括镜片*磨损、*文化馆、*温差等。因此现在有了许多针对性的物理化学测试方法，在模拟戴镜者的使用条件下，对镀膜镜片进行膜层牢度质量的测试。这些测试方法包括：盐水试验、蒸汽试验、去离子水试验、钢丝绒磨擦试验、溶解试验、黏着试验、温差试验和潮湿度试验等等。

石久高研专注15年提供高纯金属靶材 *、高纯靶材欢迎来电咨询~~~

溅射靶材磁控溅射的原理

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

溅射靶材磁控溅射的原理

磁控溅射原理：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与*原子发生碰撞，电离出大量的*离子和电子，电子飞向基片。*离子在电场的作用下加速轰击靶材，金属靶材生产厂，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子体区域内，该区域内等离子体密度很高，二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动，该电子的运动路径很长，　　在运动过程中不断的与*原子发生碰撞电离出大量的*离子轰击靶材，经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低，摆脱磁力线的束缚，远离靶材，****终沉积在基片上。

在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电*上加有一定的负高压，从靶****发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率*，在阴****附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。 磁控溅射一般分为二种：直流溅射和射频溅射，其中直流溅射设备原理简单，在溅射金属时，金属靶材，其速率也快。

而射频溅射的使用范围更为广泛，金属靶材生产商，除可溅射导电材料外，也可溅射非导电的材料，同时还司进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。溅射靶材射频的频率****后就成为微波等离子体溅射，目前常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。

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金属靶材相对密度是以什么标准换算的

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

比重（specific gr*ity）是相对密度（relative density）的旧称。相对密度定义为：某物质的密度与参考物质的密度之比。金属靶材通常是合金靶材才会用到相对密度，相对密度高代表含量高。 实际值除以理论值就是了。

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