溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
对溅射类镀膜,金属靶材供应商,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且****终沉积在基片表面,经历成膜过程,****终形成薄膜。溅射镀膜又分为很多种,总体看,与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。 溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld,金属靶材,组分均匀性容易保持,金属靶材多少钱,而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射),晶向(外沿)生长的控制也比较一般。
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溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
铝靶材的生产方法:1、铝的生产和提纯[2] :铝是从铝土矿中提取Al2O3,再在熔融冰晶石中电解而得到的,纯度一般在99%以上,但这样纯度的铝根本无法作为生产铝靶材的原材料,铝靶材对铝材的*个要求也是****重要的要求就是纯度要高,铝靶材所用的高纯铝是再经过偏析法、三层电解法或联合区域熔炼法生产而成的,价格要比工业纯铝99.7贵很多,目前国内高纯度在99.9999%(6N)左右。2、铝靶材的变形处理:有了高纯度铝锭作为原材料,对原材料进行锻造、轧制、热处理等,金属靶材公司,使铝锭内晶粒变细小、致密度增加以满足溅射所需铝靶材的要求。3、对变形处理后的高纯度铝材料进行机械加工,铝靶材加工要求精度高、表面质量高,加工成真空镀膜机所需的靶材尺寸就可以了,铝靶材与镀膜机多以螺纹相连接。
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真空镀膜和光学镀膜的区别
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
如果只是就膜厚仪测试来讲的话,真空镀膜和光学镀膜的区别就是:
1、真空镀膜:一般TiN,CrN,TiC,ZrN,电镀出来的厚度大概是3~5微米。一般情况真空镀膜的厚度是在设备上测试不出来了;
2、光学镀膜的膜厚测试可以在镀膜机的中间顶上装置膜厚测试仪即可。
****早的是光控测试,现在一般用晶控(晶振片)使用的是晶振片震动的频率来测试镀膜的厚度。不同膜层的厚度不同。
就算镀膜机是国产的,膜厚测试仪也是美国或者是韩国的。通用美国的型号是:MDC360C。
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