溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
解决靶材的结晶取向
靶材溅射时, 靶材中的原子****容易沿着密排面方向择优溅射出来,材料的结晶方向对溅射速率和溅射膜层的厚度均匀性影响较大。因此, 获得一定结晶取向的靶材结构对解决上述问题至关重要。但要使靶材*获得一定取向的结晶结构, 存在较大难度, 只有根据靶材的*结构特点, 采用不同的成型方法, 热处理工艺进行控制。
石久高研专注15年提供高纯金属靶材 *、高纯靶材欢迎来电咨询~~~
磁控溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
磁控溅射靶材应用领域
存储用在储存技术方面,高密度、大容量硬盘的发展,需要大量的巨磁阻薄膜材料,CoF ~Cu多层复合膜是如今应用广泛的巨磁阻薄膜结构。磁光盘需要的 T b F e C o合金靶材还在进一步发展,用它制造的磁光 盘具有存储容量大,寿命长,金属靶材,可反复无接触擦写的特 点。如今开发出来的磁光盘,具有 T b F e C o / T a和 T b F e C o / Al 的 层复合膜结构, T bF eCo/AI结构的Kerr 旋转角达到5 8,而T b F e Co f F a 则可以接近0.8。经过研究发现, 低磁导率的靶材高交流局部放电电压 l *电强度。
石久高研专注15年提供高纯金属靶材 *、高纯靶材欢迎来电咨询~~~
溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
靶*现象
(1)正离子堆积:靶*时,靶面形成一层绝缘膜,正离子到达阴****靶面时由于绝缘层的阻挡,哪有金属靶材,不能直接进入阴****靶面,金属靶材生产厂家,而是堆积在靶面上,容易产生冷场致弧光放电---打弧,使阴****溅射无法进行下去。(2)阳****消失:靶*时,接地的真空室壁上也沉积了绝缘膜,到达阳****的电子无法进入阳****,形成阳****消失现象。
石久高研专注15年提供高纯金属靶材 *、高纯靶材欢迎来电咨询~~~