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电子束蒸发源的优点为:①电子束轰击热源的束流密度高,能获得远比电阻加热源更大的能量密度。可以使高熔点(可高达3000°C以上)材料蒸发,并且能有较高的蒸发速度;②由于被蒸发材料是置于水冷堆锅内,因而可避免容器材料的蒸发,以及容器材料与蒸镀材料之间的反应,这对****镀膜的纯度****为重要;③热量可直接加到蒸镀材料的表面,因而热*,热传导和热辐射的损失少。
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真空镀膜之磁控溅射镀膜 :
电子的运动路径不仅很长,而且被电磁场束缚在靠近靶表面的等离子体区域内,在该区中电离出大量的离子用来轰击靶材,从而实现了磁控溅射沉积速率高的特点。随着碰撞次数的增加,电子的能量逐渐降低,肇庆挂车灯杯,同时逐步远离靶面。低能电子沿着磁力线来回振荡,待电子能量将耗尽时,在电场的作用下****终沉积在基片上。由于该电子的能量很低,传给基片的能量很小,挂车灯杯加工,致使基片温升较低。由于磁****轴线处电场与磁场平行,电子将直接飞向基片。但是在磁控溅射装置中, 磁****轴线处离子密度很低, 所以这类电子很小,对基片温升作用不大。