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金属靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

半导体用超高纯金属溅射靶材和高纯金属溅射靶材有区别吗

溅射靶材主要应用于电子及信息产业，河南石墨靶，亦可应用于玻璃镀膜领域，还可以应用于*材料、高温耐蚀、*用品等行业。

分类 根据形状可分为长靶，方靶，石墨靶的价格，圆靶，异型靶 根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材 根据应用不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、超导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等 根据应用领域分为微电*材、磁记录靶材、光碟靶材、*靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电****靶材、封装靶材、其他靶材。

原理：在被溅射的靶****(阴****)与阳****之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气)，磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电*上加有一定的负高压，从靶****发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率*，在阴****附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。

石久高研专注15年提供高纯靶材 *、高纯靶材欢迎来电咨询~~

溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

磁控溅射原理：在被溅射的靶****(阴****)与阳****之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体，磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。 磁控溅射一般分为二种：支流溅射和射频溅射，石墨靶厂，其中支流溅射设备原理简单，在溅射金属时，其速率也快。

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溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

铝靶材：

铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状高纯铝材料，安装在真空镀膜机上，溅射成膜。

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