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溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

微电子硅片引线中，石墨靶哪家好，铜与铝相比较，铜具有更高的*电迁移能力及更低的电阻率 ，能够满足半导体工艺在 0.25 μm以下的亚微米布线的需要 ，但却带来了其他的问题 。铜与有机介质材料的附着强度低 并且容易发生反应 ，导致在使用过程中芯片的铜互连线被腐蚀而断路。 为了解决以上这些问题， 需要在铜与介质层之间设置阻挡层。 阻挡层材料一般采用高熔点 、高电阻率的金属及其化合物 。因此要求阻挡层厚度小于 50 nm 且与铜及介质材料的附着性能良好。 铜互连和铝互连的阻挡层材料是不同的 ，需要研制新的靶材材料。 铜互连的阻挡层用靶材包括 Ta、 W、 TaSi 、WSi 等。但是 Ta、W 都是难熔金属，制备相对困难 现在正在研究钼、铬等的合金作为替代材料 。

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北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

铝靶材：

铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状高纯铝材料，安装在真空镀膜机上，溅射成膜。

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北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

铝靶材的生产方法：1、铝的生产和提纯[2] ：铝是从铝土矿中提取Al2O3，再在熔融冰晶石中电解而得到的，纯度一般在99%以上，但这样纯度的铝根本无法作为生产铝靶材的原材料，石墨靶公司，铝靶材对铝材的*个要求也是****重要的要求就是纯度要高，石墨靶厂，铝靶材所用的高纯铝是再经过偏析法、三层电解法或联合区域熔炼法生产而成的，价格要比工业纯铝99.7贵很多，目前国内高纯度在99.9999%（6N）左右。2、铝靶材的变形处理：有了高纯度铝锭作为原材料，对原材料进行锻造、轧制、热处理等，使铝锭内晶粒变细小、致密度增加以满足溅射所需铝靶材的要求。3、对变形处理后的高纯度铝材料进行机械加工，石墨靶，铝靶材加工要求精度高、表面质量高，加工成真空镀膜机所需的靶材尺寸就可以了，铝靶材与镀膜机多以螺纹相连接。

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