金属靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
溅射靶材使用指南及注意事项
靶材清洁
靶材清洁的目的是去除靶材表面可能存在的灰尘或污垢。
金属靶材可以通过四步清洁,
*步用在酒精中浸泡过的无绒软布清洁;
第2步与*步类似用酒精清洁;
第3步用去离子水清洗。在用去离子水清洗过后再将靶材放置在烘箱中以100摄氏度烘干30分钟。 氧化物及陶瓷靶材的清洗建洁用“无绒布”进行清洁。
第4步在清除完有污垢的区域后,再用高压低水气的*气冲洗靶材, 以除去所有可能在溅射系统中会造成起弧的杂质微粒.
靶材安装
靶材安装过程中****重要的注意事项是一定要确保在靶材和溅射枪冷却壁之间建立很好的导热连接。如果用冷却壁的翘曲程度严重或背板翘曲严重会造成靶材安装时发生开裂或弯曲,背靶到靶材的导热性能就会受到很大的影响,导致在溅射过程中热量无法散发****终会造成靶材开裂或脱靶 为确保足够的导热性,可以在阴****冷却壁与靶材之间加垫一层石墨纸。请注意一定要仔细检查和明确所使用溅射枪冷却壁的平整度,钴靶供应商,同时确保O型密封圈始终在位置上。
石久高研专注15年提供高纯金属靶材 *、高纯靶材欢迎来电咨询~~~
溅射靶材磁控溅射的原理
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
溅射靶材磁控溅射的原理
磁控溅射原理:电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与*原子发生碰撞,电离出大量的*离子和电子,电子飞向基片。*离子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜。二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响,被束缚在靠近靶面的等离子体区域内,该区域内等离子体密度很高,二次电子在磁场的作用下围绕靶面作圆周运动,该电子的运动路径很长, 在运动过程中不断的与*原子发生碰撞电离出大量的*离子轰击靶材,经过多次碰撞后电子的能量逐渐降低,摆脱磁力线的束缚,远离靶材,钴靶价格,****终沉积在基片上。
在电场的作用下,Ar气电离成正离子和电*上加有一定的负高压,从靶****发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率*,在阴****附近形成高密度的等离子体,Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面,以很高的速度轰击靶面,使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。 磁控溅射一般分为二种:直流溅射和射频溅射,其中直流溅射设备原理简单,钴靶,在溅射金属时,其速率也快。
而射频溅射的使用范围更为广泛,除可溅射导电材料外,也可溅射非导电的材料,同时还司进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。溅射靶材射频的频率****后就成为微波等离子体溅射,目前常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。
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溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
高纯铜靶材主要应用领域
平面显示器产业:平面显示器包括液晶显示器(LCD)、等离子体显示器(PDP)等等。目前,在平面显示器市场中以液晶显示器(LCD)为主,其市场占有率超过85%,被认为是目前****有应用前景的平面显示器件,广泛应用于笔记本电脑显示器、台式电脑监视器和高清晰电视机。LCD的制造工艺较复杂,其中降低反射层、透明电****、发射****与阴****均由溅射方法形成,因此,在LCD产业中溅射靶材起着重要作用。
高纯度铜靶材在以上领域都有广泛应用,并且对所需溅射靶材的质量提出了越来越高的要求。
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