溅射靶材分类
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年,浙江钴靶, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
溅射靶材分类根据形状可分为长靶,方靶,圆靶,异型靶根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材。根据应用不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、超导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等根据应用领域分为微电*材、磁记录靶材、光碟靶材、*靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电****靶材、封装靶材、其他靶材。
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溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年,钴靶厂家, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
靶材的成分与结构均匀性
为了保证溅射薄膜均匀,尤其在复杂的大面积镀膜应用方面,必须做到靶材成分与结构均匀性好,这也是考察陶瓷靶材质量的重要指标之一。例如,为了保证质量,要求ITO靶中In2O3, SnO2组成均匀,都为93:7或91:9(分子比)。特别是溅射靶材的微观结构均匀性对溅射时的成膜速率、沉积薄膜的质量及厚度分布等均有很大的影响。根据有关研究表明,细晶粒(lt;100μm)结构溅射靶材的成膜速率大于粗晶粒靶。因此,当陶瓷靶材在靶面尺寸上的晶粒分布不均匀时,将造成沉积薄膜厚度分布的不均匀现象。
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什么是金属靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,钴靶厂家哪家好,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
金属靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料。有金属类、合金类、氧化物类等等。钨-钛(W-Ti)膜以及以钨-钛(W-Ti)为基的合金膜是高温合金膜,具有一系列*的优良性能。钨具有高熔点、高强度和低的热膨胀系数等性能,W/ Ti 合金具有低的电阻系数、良好的热稳定性能。如各种器件都需要起到导电作用的金属布线,例如Al 、Cu 和Ag 等已经被广泛的应用和研究。
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