真空镀膜和光学镀膜的区别
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,镍铬硅合金出售,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
如果只是就膜厚仪测试来讲的话,真空镀膜和光学镀膜的区别就是:
1、真空镀膜:一般TiN,镍铬硅合金,CrN,TiC,ZrN,电镀出来的厚度大概是3~5微米。一般情况真空镀膜的厚度是在设备上测试不出来了;
2、光学镀膜的膜厚测试可以在镀膜机的中间顶上装置膜厚测试仪即可。
****早的是光控测试,现在一般用晶控(晶振片)使用的是晶振片震动的频率来测试镀膜的厚度。不同膜层的厚度不同。
就算镀膜机是国产的,膜厚测试仪也是美国或者是韩国的。通用美国的型号是:MDC360C。
石久高研专注15年提供高纯金属靶材 *、高纯靶材欢迎来电咨询~~~
真空镀膜靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
靶*的影响因素
影响靶*的因素主要是反应气体和溅射气体的比例,反应气体过量就会导致靶*。反应溅射工艺进行过程中靶表面溅射沟道区域内出现被反应生成物覆盖或反应生成物被剥离而重新暴露金属表面此消彼长的过程。如果化合物的生成速率大于化合物被剥离的速率,化合物覆盖面积增加。在一定功率的情况下,参与化合物生成的反应气体量增加,化合物生成率增加。如果反应气体量增加过度,化合物覆盖面积增加,如果不能及时调整反应气体流量,化合物覆盖面积增加的速率得不到*,溅射沟道将进一步被化合物覆盖,当溅射靶被化合物全部覆盖的时候,靶完全*,在靶面上沉积一层化合金属膜。使其很难被再次反应。
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溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
铝靶材的生产方法:1、铝的生产和提纯[2] :铝是从铝土矿中提取Al2O3,再在熔融冰晶石中电解而得到的,纯度一般在99%以上,镍铬硅合金供应商,但这样纯度的铝根本无法作为生产铝靶材的原材料,铝靶材对铝材的*个要求也是****重要的要求就是纯度要高,铝靶材所用的高纯铝是再经过偏析法、三层电解法或联合区域熔炼法生产而成的,价格要比工业纯铝99.7贵很多,目前国内高纯度在99.9999%(6N)左右。2、铝靶材的变形处理:有了高纯度铝锭作为原材料,对原材料进行锻造、轧制、热处理等,使铝锭内晶粒变细小、致密度增加以满足溅射所需铝靶材的要求。3、对变形处理后的高纯度铝材料进行机械加工,镍铬硅合金批发价格,铝靶材加工要求精度高、表面质量高,加工成真空镀膜机所需的靶材尺寸就可以了,铝靶材与镀膜机多以螺纹相连接。
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