石久高研、氧化锑、氧化锑公司

溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

靶材的密度

为了减少陶瓷靶材中的气孔，****薄膜的性能，一般要求溅射陶瓷靶材具有高密度。通常，靶材的密度不仅影响溅射时的沉积速率、溅射膜粒子的密度和放电现象等，还影响着溅射薄膜的电学和光学性能。靶材越密实，溅射膜粒子的空间分布浓度越低，放电现象越弱，而薄膜的性能也会越好。此外，****陶瓷靶材的致密度和强度能使靶材更好地承受溅射过程中的热应力。因此，****靶材的密度是制备陶瓷靶材的关键技术之一。在成型加工方法中预成型压力也是重要因素，靶材的预成形压力小，相应靶坯料的密度也小，这对靶材的烧结自然十分有利，靶材氧扩散好，相转变完全，靶材内部不易产生“夹芯”，但另一方面使靶材的机械强度降低，易发生*裂，不利于薄膜工艺使用.结合薄膜工艺、靶材应用活性和靶材加工实践考虑，一般情况下，靶材表观密度达理论密度控制在gt;55％~80%即可。粉末冶金法制造的靶材， 则****有可能含有一定数量的气孔。气孔的存在会导致溅射时产生不正常放电而产生杂质粒子，另外含有气孔的靶材在搬动、运输 、安装、操作时因其密度较低，也****易发生碎裂 。由采用真空熔炼方法制造的靶材可确保块材内部无气孔存在

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光学镀膜

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

技术特征

1）*代*磨损膜技术

*磨损膜始于20世纪70年代初，氧化锑厂家，当时认为玻璃镜片不易磨制是因为其硬度高，而有机镜片则太软所以容易磨损。因此将石英材料于真空条件下镀在有机镜片表面，形成一层非常硬的*磨损膜，但由于其热胀系数与片基材料的不匹配，很容易脱膜和膜层脆裂，因此*磨损效果不理想。

2）第二代*磨损膜技术

20世纪80年代以后，研究人员从理论上发现磨损产生的机理不仅仅与硬度相关，膜层材料具有“硬度/形变”的双重特性，即有些材料的硬度较高，但变形较小，而有些材料硬度较低，但变形较大。第二代的*磨损膜技术就是通过浸泡工艺法在有机镜片的表面镀上一种硬度高且不易脆裂的材料。

3）第三代*磨损膜技术

第三代的*磨损膜技术是20世纪90年代以后发展起来的，主要是为了解决有机镜片镀上减反射膜层后的*性问题。由于有机镜片片基的硬度和减反射膜层的硬度有很大的差别，新的理论认为在两者之间需要有一层*磨损膜层，使镜片在受到砂砾磨擦时能起缓冲作用，并而不容易产生划痕。第三代*磨损膜层材料的硬度介于减反射膜和镜片片基的硬度之间，其磨擦系数低且不易脆裂。

4）第四代*磨损膜技术

第四代的*膜技术是采用了硅原子，例如法国依视路公司的帝镀斯（TITUS）加硬液中既含有有机基质，又含有包括硅元素的无机超微粒物，氧化锑，使*磨损膜具备韧性的同时又****了硬度。现代的镀*磨损膜技术****主要的是采用浸泡法，即镜片经过多道清洗后，浸入加硬液中，一定时间后，以一定的速度提起。这一速度与加硬液的黏度有关，并对*磨损膜层的厚度起决定作用。提起后在100 °C左右的烘箱中聚合4－5小时，氧化锑价格，镀层厚约3－5微米。

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有研新材：近2亿元投建高纯金属靶材项目

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

中证网讯 有研新材(600206)布告称，该公司全资子公司有研亿金新资料有限公司为提添加纯金属靶材研制出产才能和技能水平，扩大8-12英寸集成电路用靶材出产才能，在研讨国际、国内高纯金属靶材商场局势和技能开展趋势，以及自身优势和开展战略的基础上，出资19，943.90万元，建造有研亿金高纯金属靶材产业化建造项目。

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