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北京氧化铋报价_氧化铋报价_石久高研(多图)

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金属靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

溅射靶材使用指南及注意事项

靶材*

为避免在溅射过程中因为不洁净的腔体导致短路和起弧,有必要阶段性的除去溅射轨道中间及两侧堆积的溅射物,这也****于用户可以连续以大功率密度进行溅射。

石久高研专注15年提供高纯金属靶材 *、高纯靶材欢迎来电咨询~~~






真空镀膜和光学镀膜的区别

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

如果只是就膜厚仪测试来讲的话,辽宁氧化铋报价,真空镀膜和光学镀膜的区别就是:

1、真空镀膜:一般TiN,CrN,TiC,ZrN,天津氧化铋报价,电镀出来的厚度大概是3~5微米。一般情况真空镀膜的厚度是在设备上测试不出来了;

2、光学镀膜的膜厚测试可以在镀膜机的中间顶上装置膜厚测试仪即可。

****早的是光控测试,北京氧化铋报价,现在一般用晶控(晶振片)使用的是晶振片震动的频率来测试镀膜的厚度。不同膜层的厚度不同。

就算镀膜机是国产的,膜厚测试仪也是美国或者是韩国的。通用美国的型号是:MDC360C。

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磁控溅射靶材的原理介绍

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

磁控溅射就是以磁场束缚和延长电子的运动路径,改变电子的运动方向,****工作气体的电离率和有效利用电子的能量。电子的归宿不仅仅是基片,氧化铋报价,真空室内壁及靶源阳****也是电子归宿。但一般基片与真空室及阳****在同一电势。磁场与电场的交互作用( E X B drift)使单个电子轨迹呈三维螺旋状,而不是仅仅在靶面圆周运动。至于靶面圆周型的溅射轮廓,那是靶源磁场磁力线呈圆周形状形状。磁力线分布方向不同会对成膜有很大关系。 在E X B shift机理下工作的不光磁控溅射,多弧镀靶源,离子源,等离子源等都在次原理下工作。所不同的是电场方向,电压电流大小而已。

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