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化学抛光：化学抛光是让材料是化学介质中表面微观凸出的部分较凹部分优先溶解，从而得到平滑面。化学抛光的核心问题是抛光液的配置，*，化学抛光得到的表面粗糙度一般为数10μm 电解抛光：电解抛光的基本原理与化学抛光相同，即靠选择性溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。

电解抛光过程分为两步：(1)宏观平整 溶解产物向电解液中扩散，材料表面几何粗糙下降Ragt;1μm (2)微光平整 阳********化，表面光亮度****，Ragt;1μm。

问：化学抛光的缺点？答：光亮度差，不如电解抛光。有气体溢出，需要通风设备，加温困难。适合加工小批量复杂件及小零件光亮度要求不高的产品。问：问：化学抛光的优点？答：化学抛光设备简单，可以处理形状比较复杂的零件。问：问：什么是化学抛光?答：是将工件放在溶液中，不使用外接电源，对工件表面凹凸不平区域的选择性溶解作用消除磨痕、浸蚀整平的一种方法。问：问：机械抛光的缺点？答：劳动强度大，污染严重，而且复杂零件无法加工，而且其光泽不能一致，不锈钢电解抛光，光泽保持时间不长，发闷、生锈。比较适合加工简单件，中、小产品。问：问：机械抛光的优点？答：加工后零件的整平性好，光亮度高。