石久高研_氧化镁_氧化镁厂
溅射对靶材有哪些性能要求
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
1.靶材短路后靶材成了负载，瞬间就会产生巨大的热量。由于纯铝的熔点很低，只有660摄氏度，不但在外力的作用下靶材变形，局部还会达到熔点，形成溶洞；2。即便靶材不短路，如果冷却系统出现问题铝靶材也容易变形；3.磁控溅射镀膜电源保护性的功能差，超载后不能及时自动停止工作。
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溅射靶材
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靶*现象
(1)正离子堆积：靶*时，靶面形成一层绝缘膜，正离子到达阴****靶面时由于绝缘层的阻挡，不能直接进入阴****靶面，而是堆积在靶面上，容易产生冷场致弧光放电---打弧，使阴****溅射无法进行下去。（2）阳****消失：靶*时，接地的真空室壁上也沉积了绝缘膜，到达阳****的电子无法进入阳****，形成阳****消失现象。
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靶*的物理解释
一般情况下，金属化合物的二次电子发射系数比金属的高，氧化镁厂，靶*后，靶材表面都是金属化合物，氧化镁，在受到离子轰击之后，释放的二次电子数量增加，****了空间的导通能力，降低了等离子体阻*，导致溅射电压降低。从而降低了溅射速率。一般情况下磁控溅射的溅射电压在400v-600v之间，当发生靶*时，溅射电压会显著降低。
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