金属靶材的前景
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
钨-钛靶材作为光伏电池镀膜材料是****近发展起来的,它作为第三代太阳能电池的阻挡层是好的选择。
由于 W-Ti 系列薄膜具有非常优良的性能,近几年来应用量急剧增加,2008年W-Ti 靶材世界用量已达到400t,随着光伏产业的发展,这种靶材的需求量会越来越大。具行业预测其用量还会有很大的增加。国际太阳能电池市场以100%的速度增长,目前世界有30 多公司参与太阳能市场的进一步开发, 并已有的公司产品投入市场。我国研发的超大尺寸、高密度、高纯W-Ti 靶材,是属于新型的离子溅射镀膜靶材料。可广泛应用于显示屏的阻挡层或调色层,笔记本电脑的装饰层、电池的封装、太阳能(光伏)电池的阻挡层,具有很好市场前景和经济效益。另一方面又可带动我国钨产业的产品升级换代,获得更高的附加值。
石久高研专注15年提供高纯金属靶材 *、高纯靶材欢迎来电咨询~~
溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
解决靶材的结晶取向
靶材溅射时, 靶材中的原子****容易沿着密排面方向择优溅射出来,氮化硅靶批发价格,材料的结晶方向对溅射速率和溅射膜层的厚度均匀性影响较大。因此, 获得一定结晶取向的靶材结构对解决上述问题至关重要。但要使靶材*获得一定取向的结晶结构,氮化硅靶, 存在较大难度, 只有根据靶材的*结构特点, 采用不同的成型方法, 热处理工艺进行控制。
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溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
微电子硅片引线中,铜与铝相比较,铜具有更高的*电迁移能力及更低的电阻率 ,能够满足半导体工艺在 0.25 μm以下的亚微米布线的需要 ,但却带来了其他的问题 。铜与有机介质材料的附着强度低 并且容易发生反应 ,导致在使用过程中芯片的铜互连线被腐蚀而断路。 为了解决以上这些问题, 需要在铜与介质层之间设置阻挡层。 阻挡层材料一般采用高熔点 、高电阻率的金属及其化合物 。因此要求阻挡层厚度小于 50 nm 且与铜及介质材料的附着性能良好。 铜互连和铝互连的阻挡层材料是不同的 ,需要研制新的靶材材料。 铜互连的阻挡层用靶材包括 Ta、 W、 TaSi 、WSi 等。但是 Ta、W 都是难熔金属,制备相对困难 现在正在研究钼、铬等的合金作为替代材料 。
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