金属靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年,氮化硅靶多少钱, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
溅射靶材使用指南及注意事项
靶材*
为避免在溅射过程中因为不洁净的腔体导致短路和起弧,有必要阶段性的除去溅射轨道中间及两侧堆积的溅射物,这也****于用户可以连续以大功率密度进行溅射。
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溅射靶材
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靶材的成分与结构均匀性
为了保证溅射薄膜均匀,尤其在复杂的大面积镀膜应用方面,必须做到靶材成分与结构均匀性好,这也是考察陶瓷靶材质量的重要指标之一。例如,为了保证质量,要求ITO靶中In2O3, SnO2组成均匀,都为93:7或91:9(分子比)。特别是溅射靶材的微观结构均匀性对溅射时的成膜速率、沉积薄膜的质量及厚度分布等均有很大的影响。根据有关研究表明,细晶粒(lt;100μm)结构溅射靶材的成膜速率大于粗晶粒靶。因此,当陶瓷靶材在靶面尺寸上的晶粒分布不均匀时,氮化硅靶,将造成沉积薄膜厚度分布的不均匀现象。
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磁控溅射镀膜靶材分类
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
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