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溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
靶材的主要性能要求:
为了减少靶材固体中的气孔，****溅射薄膜的性能，通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率，还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，****靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。
石久高研专注15年提供高纯金属靶材 *、高纯靶材欢迎来电咨询~~~
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靶*的解决办法
1、采用中频电源或射频电源。
2、采用闭环控制反应气体的通入量。
3、采用孪生靶
4、控制镀膜模式的变换：在镀膜前，采集靶*的迟滞效应曲线，使进气流量控制在产生靶*的前沿，确保工艺过程始终处于沉积速率陡降前的模式。
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磁控溅射镀膜靶材分类
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年，铂靶批发价格， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，铂靶，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
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