化学抛光
首先化学抛光是靠化学*对样品表面凹凸不平区域的选择性溶解作用消除磨痕、浸蚀整平的一种方法。其基本原理是金属试样表面各组成相的电化学电位不同,形成了许多微电势,在化学溶液中会产生不均匀溶解。在溶解过程中试样面表层会产生一层氧化膜,衢州抛光,试样表面凸出部分由于粘膜薄,干燥设备抛光,金属的溶解扩展速度较慢,抛光后的表面光滑,但形成有小的起伏波形,不能达到十分理想的要求。在低和中等放大倍数下利用显微镜观察时,这种小的起伏一般在物镜垂直鉴别能力之内,清洗机械抛光机,仍能观察到十分清晰的*。
机械抛光
在机械抛光中要注意的问题:当用砂纸抛光应注意这几点,用砂纸抛光需要利用软的木棒或竹棒。在抛光圆面或球面时,使用软木棒可更好的配合圆面和球面的弧度。而较硬的木条像樱桃木,则更适用于平整表面的抛光。当换用不同型号的砂纸时,抛光方向应变换 45 ° ~ 90 °。在抛光继续进行之前,所有颗粒和煤油都必须被完全清洁干净。为了避免擦伤和shao伤工件表面。有必要加载一个轻载荷以及采用两步抛光法对表面进行抛光。