钛旋转靶材、百色旋转靶材、旋转靶材

广州市尤特新材料有限公司是一家扎根于电子信息材料行业的高新技术企业，高纯azo旋转靶材，以生产信息存储记录材料为起点，顺延产业技术发展的方向，深耕产业技术应用的潜力，旋转靶材厂商，经过11年的开拓已发展成为拥有电子浆料、金属薄膜靶材信息存储记录材料、工程塑料、触控显示材料、石墨烯材料、UV化工材料这七大核心技术为中心的产业集团。

TiO2-x(通常0lt;xlt;1)是介于Ti和TiO2之间的一种导电材料。其制备方法主要有热压烧结和等离子喷射沉积两种。用TiO2-x作为靶材镀TiO2薄膜近年来受到人们的重视。它具有以下三方面的优势: (1)沉积速率高。Ohsaki H等以TiO2-x为靶材进行平板直流磁控溅射。当溅射气氛为3% O2和97%Ar(均为体积分数)时，有效沉积速率达0.31 nm·cm2·s-1·W，而常规以Ti为靶材，钛旋转靶材，气氛为100% O2时，有效沉积速率仅为0.037 nm·cm2·s-1·W，因此用TiO2-x作靶材能将沉积速率****近一个数量级，两种情况下所得薄膜的折射率几乎相同。

广州市尤特新材料有限公司是一家扎根于电子信息材料行业的高新技术企业，以生产信息存储记录材料为起点，顺延产业技术发展的方向，深耕产业技术应用的潜力，经过11年的开拓已发展成为拥有电子浆料（*镀膜技术）、金属薄膜靶材（真空镀膜靶材技术）信息存储记录材料（激光读写光盘生产技术）、工程塑料（PC再生造粒及改性技术）、触控显示材料（手机、平板触摸屏材料）、石墨烯材料（导电、散热）、UV化工材料（UV油墨、UV电子胶粘剂）这七大核心技术为中心的产业集团。

微电子领域

在所有应用产业中，半导体产业对靶材溅射薄膜的品质要求是****苛刻的。如今12英寸 （3 0 0衄 口）的 硅晶片已制造出来．而互连线的宽度却在减小。硅 片制造商对靶材的要求是大尺寸、高纯度、低偏析和 细晶粒， 这就要求所制造的靶材具有更好的微观结构。靶材的结晶粒子直径和均匀性 已被认为是影响薄膜沉 积率的关键因素。另外，薄膜的纯度与靶材的纯度关 系****大，百色旋转靶材，过去99.995 %（4 N5） 纯度的铜靶，或许能够满 足半导体厂商0.3 5pm 工艺的需求，但是却无法满足如今0.2 5um的工艺要求， 而未米的 0.18um }艺甚至0.13m工艺，所需要的靶材纯度将要求达 到5甚至 6N以上。铜与铝相比较，铜具有更高的*电迁移能力及更 低的电阻率，能够满足！ 导体工艺在0 .25um 以下 的亚微米布线的需要但却带米了其他的问题：铜与 有机介质材料的附着强度低．并且容易发生反应，导 致在使用过程中芯片的铜互连线被腐蚀而断路。为了解决以上这些问题，需要在铜与介质层之间设置阻挡 层。阻挡层材料一般采用高熔点、高电阻率的金属及其化合物，因此要求阻挡层厚度小于50n m，与铜及介质材料的附着性能良好。铜互连和铝互连的阻挡层 材料是不同的．需要研制新的靶材材料。铜互连的阻 挡层用靶材包括 T a 、W、T a S i 、WS i 等 ．但是T a 、W 都是难熔金属．制作相对困难，如今正在研究钼、铬 等的台金作为替代材料。