其基本原理是利用化学感光材料的光敏特性, 在基体金属基片两面均匀涂敷感光材料采用光刻方法, 将胶膜板上栅网产显形状*地*到金属基片两面的感光层掩膜上通过显影去除未感光部分的掩膜, 将*的金属部分在后续的加工中与腐蚀液直接喷压接触而被蚀除, ****终获取所需的几何形状及*尺寸的产品技术蚀刻技术蚀刻一共有两大类:1:干式蚀刻; 2:湿式蚀刻。
蚀刻技术是利用特定的溶液与薄膜间所进行的化学反应来去除薄膜未被光阻覆盖的部分,而达到蚀刻的目的,这种蚀刻方式也就是所谓的湿式蚀刻。因为湿式蚀刻是利用化学反应来进行薄膜的去除,而化学反应本身不具方向性,因此湿式蚀刻过程为等向性,一般而言此方式不足以定义3微米以下的线宽,但对于3微米以上的线宽定义湿式蚀刻仍然为一可选择采用的技术。
(
1
)
以水清洗后,完全排放再注入清水到所有缸槽后,打开喷淋马达
10
分钟
后再排出所有槽内废水。
(
2
)
注入
5-10%
稀盐酸、打开喷淋马达
30
分钟,再排出所有槽内废水。
(
3
)
改用清洁水重复步骤(
2
),检查管路是否漏水。
(
4
)拆下所有喷嘴,浸泡于
10%
盐酸溶液中,清洗阻塞。
(
5
)
装回喷嘴
(
6
)
注入
5%
氨水,打开喷淋马达
30
分钟。
(
7
)
改用清洁水,重复步骤(
6
)
(
8
)
注入
5-10%
蚀刻母液,打开温度控制器,检查
PH
值,比重,氯离子,铜
含量并确保在范围内,选择合适的输送速度