水基型水是****重要的清洗剂,有着其它任何清洗剂无法替代的作用和地位。
普通的水很容易从自然界中得到,水有很强的溶解力和分散力。但是水的表面张力大,在使用中需要添加表面活性剂,以减小表面张力,增加表面湿润性。在一般工业清洗中,酸,碱和水的配合比较常见,有些金属用水洗要加入防锈剂;在精密和超精密工业清洗中。大部分要求将水制成纯净水。通常以电阻率来衡量水纯度。
半导体工业要求在18MΩ/cm以上。而TN型液晶生产10MΩ/cm就可以了,还有一些行业对*含量要求很严。近几年,中国部分地区严重缺水,对清洗用水提出了挑战。有的城市已经严禁用普通水洗车,而只能使用回收的中水,或者雾化水的节水设备。在精密工业清洗中,制备纯水费用昂贵。水洗必然要加热和烘干,增加很多*洗工位。耗能大,运行成本通常比溶剂洗要高;另外,以往大量的含有化学活性剂和污垢的废水未经处理就直接排放。有些还挟带了毒性很大的*,严重地污染了环境,必须增加污水处理设施。
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半水基型
半水基型清洗剂也叫准水基型清洗剂,是由高沸点溶剂及活性剂等组成如醇类,有机烃类等。通常含有5%一20%的水分,一般不*烧,但加温清洗时水含量控制不当,可能产生燃烧现象。半水基型清洗与溶剂洗有一些不同,它的清洗原理是剥离去除,而不是溶解。为了****已经剥落的油污再附到被清洗物上,清洗液要连续地循环,并增加油水分离器。半水洗通常清洗效果很好,但运行成本较高,废液不能再生回收,重复使用,含COD(化学耗氧量)较高,需要进行废水处理。
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