日本进口离子源栅网考夫曼和射频等多种机型的离子源
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中国 上海 静安
产品属性
- 尺寸:
- 定制
- 品牌:
- 日本
- 品牌:
- 其他
- 原理类型:
- 真空离子镀膜机
- 应用领域:
- 光学薄膜
- 极限真空度类型:
- 超高真空(<0.00001Pa)
- 加工定制:
- 是
- 型号:
- grid
- 极限真空度:
- 100
- 镀膜室尺寸:
- 30cm
- 工作真空度:
- 10000
- 升压率:
- 245
- 抽气时间:
- 1s
- 靶材利用率:
- 100
- 基材尺寸:
- 30cm
- 可镀基材:
- 钼
- 卷绕速度:
- 1987
- 真空室材质:
- 钼
- 真空获得系统:
- 12
- 工件运动方式:
- 横轴
- 系统控制:
- 日本进口
- 最高加热温度:
- 100
- 热区加热均匀度:
- 均匀
- 冷却方式:
- 空冷
- 流量:
- 183
- 蒸发功率:
- 1344
- 整机总功率:
- 10000
- 适用领域:
- 光学镀膜
- 外观尺寸:
- 30cm
- 重量:
- 0.3kg
离子源栅网直接影响膜层均匀性和致密性的重要易耗性配件。
日本进口离子源栅网适用于考夫曼和射频等多种机型的离子源,可直接替换同类品牌产品,性能优良,价格低廉。
离子栅网系统中的栅网一般为三栅式结构,分别包括屏栅、加速栅和减速栅,其中屏栅相距等离子体近,减速栅相距等离子体远,加速栅位于屏栅与减速栅之间,屏栅的电势高与等离子体内部的电势相接近,加速栅的电势为负值,减速栅的电势为零。离子束流依次经过三片栅网终获得一定空间浓度分布的离子束。三栅式结构的栅网对于装调精度要求很高,各栅网之间的距离、各栅网上孔洞的相对偏转角度等都会对离子栅网系统的工作稳定性和对离子束流的控制能力产生较大影响。
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