磁控溅射靶材种类：金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材，氟化物陶瓷溅射靶材 ，氮化物陶瓷溅射靶材 ，*回收靶粉，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷溅射靶材 ，硅化物陶瓷溅射靶材 ，硫化物陶瓷溅射靶材 ，碲化物陶瓷溅射靶材 ，其他陶瓷靶材，焦作*回收，掺铬一氧化硅陶瓷靶材（Cr-SiO）。苏州ITO靶材回收，昆山ITO靶材回收，江苏ITO靶材回收。

BCC的报告显示：全球的上述产业在1999年使用了2.88百万公斤靶材。换算为面积，则溅射了363百万平方米的薄膜。而若以单位靶材来计算，全 球在1999年则大约使用了37400单位的靶材。这里所要指出的是，*回收铟锭，随着应用产业的不同，靶材的形状与 大小也有所差异，其直径从15G m到 3m都有，而上述的统计资料，则是平均化后的结果。苏州ITO靶材回收，昆山ITO靶材回收，江苏ITO靶材回收。

靶材的结晶粒子直径和均匀性 已被认为是影响薄膜沉 积率的关键因素。另外，薄膜的纯度与靶材的纯度关 系****大，过去99.995 %（4 N5） 纯度的铜靶，*回收ito靶材，或许能够满 足半导体厂商0.3 5pm 工艺的需求，但是却无法满足如今0.2 5um的工艺要求， 而未米的 0.18um }艺甚至0.13m工艺，所需要的靶材纯度将要求达 到5甚至 6N以上。苏州ITO靶材回收，昆山ITO靶材回收，江苏ITO靶材回收。